2 sonuçlar
Arama Sonuçları
Listeleniyor 1 - 2 / 2
Öğe Al/Congo Red/P-Tipi Si yarıiletken diyotlarının elektronik ve arayüzey özellikleri üzerine gama ışınlamasının etkisi(Batman Üniversitesi Lisansüstü Eğitim Enstitüsü, 2022-01-04) Altunışık, Celal; Güllü, ÖmerBu çalışmada katıhal devre elemanları ve malzemeler üzerindeki ışınlama etkilerinin araştırılması, pek çok bilim insanı ve farklı ülkelerin uzay ajansları konuyla ilgili çalıştıkları için ilgi çekmektedir. Bir foton veya parçacık radyasyonu katıhal devre elemanlarına ve malzemelere uygulanırsa, sert bir bozulma ortaya çıkacaktır. Bu ışınlama prosedürü aşamasında, yarıiletken aygıtlar üzerinde kalıcı veya geçici bozulma durumu oluşabilecektir. Bu tez çalışmasında, MIS diyotun fabrikasyonu için p-tipi Silisyum yarıiletken alttaşlar kullanılmıştır. Kimyasal temizlik aşamasından sonra, Al/Congo Red (CR)/p-Si MIS diyot yapısı omik arka kontak ve Al üst kontağın metalizasyonu ile üretilmiştir. Si alttaşlar üzerinde organik CR ince filmi %0.2 lik etanol çözeltisi içeren congo red çözeltisinin kaplanmasıyla yapılmıştır. Al/CR/p Si MIS kontak üzerinde ışınlama etkisini araştırmak için, Co-60 γ- ışınlamasından önce ve sonra Akım Voltaj (IV) ve Kapasite-Gerilim (CV) ölçümleri alındı. I-V verilerinden geleneksel LnI-V karakteristikleri, Cheung fonksiyonları ve Norde fonksiyonları kullanılarak, idealite faktörü (n), engel yüksekliği (Φb) ve seri direnç (Rs) hesaplandı. Ayrıca, Al/CR/p-Si MIS kontağın arayüzey durum yoğunluğu (Nss) da hasaplandı. Aygıtın C-V ölçümlerinden difüzyon potansiyeli (Vd), engel yüksekliği (Φb) ve akseptör yük konsanstrasyonu (Na) değerleri hesaplandı.Öğe Barrier enhancement of Al/n-InP Schottky diodes by graphene oxide thin layer(Scientific Publishers, 2019) Güllü, Ömer; Çankaya, Murat; Rajagopal Reddy, VarraIn the present work, the surface morphology, structural and optical features of graphene oxide (GO) films are investigated. The Al/GO/n-InP MIS diode is formed by depositing GO layer on n-InP wafer for the barrier enhancement. Interfacial properties of the MIS diode with GO interlayer are extracted from current–voltage (I–V) measurement. The simple diode parameters such as barrier height and ideality factor are extracted from I–V plots, and the values are compared with those of conventional Al/n-InP MS contact. The value of barrier height (BH) for the Al/GO/n-InP contact is found as 0.85 eV. The BH value of 0.85 eV of the Al/GO/n-InP MIS structure is as high as around 100% compared to the value of 0.43 eV of the Al/n-InP reference contacts. We have showed that the value of 0.85 eV is one of the highest values presented for reference contacts with an interlayer.
